“……彙報在亞納米尺度下柵極長度控製及基於新型高遷移率溝道材料的器件集成方麵取得的最新進展……實驗數據顯示，在等效物理柵長0.8納米條件下，器件性能與漏電控製達到理論預期……為1納米及以下節點邏輯器件的可行性提供了有力證據……”
1納米及以下節點！等效物理柵長0.8納米！
林飛倒吸一口涼氣！心臟砰砰狂跳！
這已經不是對口了，這簡直是瞌睡遇到了枕頭！
不，是餓極了看到滿漢全席！
他原本的計劃，是找到一些能做芯片設計、或者對現有工藝有深刻理解的人才。
然後利用國際上最先進的2納米代工廠來生產神腦頭盔所需的超高性能芯片。
畢竟，處理海量神經信號、運行複雜意識交互算法，對芯片的算力、能效比要求是天文數字。
他初步估算，至少需要5納米甚至3納米工藝才能勉強滿足基本需求，理想狀態是未來的0.5納米工藝。
而目前全球最頂尖的量產技術是2納米，1納米還停留在實驗室探索階段，至於0.5納米，更是屬於科幻範疇。
可現在，就在江城，就在一所理工大學裡，一個低調的老教授和他的學生團隊，居然不聲不響地摸到了1納米的門檻，甚至在探索更低的節點？！
而且看報告摘要，他們似乎在最關鍵的材料和器件物理層麵取得了突破性進展！
這意味著什麼？
意味著他們研究的，不僅僅是芯片設計，而是包括了製造芯片的核心母機——光刻機以及與之配套的整套工藝整合技術！
隻有掌握了更高精度的光刻和工藝，才能造出更小的晶體管！
誠然，林飛從龍傲天的“係統遺產”中，確實擁有完整且遠超這個時代的光刻機技術資料，彆說1納米，0.1納米甚至更誇張的技術都有。
但技術資料是死的，要把圖紙變成現實，需要龐大的工程團隊、天量的資金投入和以年為單位的時間。
這完全不比研發意識頭盔本身簡單。
他的計劃是，先集中火力攻克腦機接口和虛擬世界技術，用市場上能買到的最好芯片讓產品先跑起來，占領市場和生態。
等站穩腳跟後，再慢慢布局自研光刻機和芯片製造，實現全產業鏈自主可控。
然而，傅國生教授團隊的出現，徹底打亂了他的節奏，也給了他一個巨大的驚喜！
如果這個團隊真的在1納米光刻和工藝上接近突破，那豈不是說，他有可能大大提前實現芯片自研的夢想？
甚至，在神腦頭盔問世時，就能用上自研的、領先全球的超高性能芯片？
這將是何等巨大的優勢！
激動過後，林飛迅速冷靜下來。
他仔細分析著獲取到的有限信息。
從專利和報告摘要看，這個團隊的技術路徑非常獨特，似乎繞開了一些傳統euv光刻的難點，在新材料和新結構上找到了突破口。
但摘要也含糊地提到“在光源穩定性與缺陷控製方麵仍麵臨最終挑戰”。
看來，他們是卡在了最後一個，也可能是最關鍵的技術瓶頸上。
“了不起……真的了不起……”林飛喃喃自語，心中充滿了敬佩。
要知道，目前國內最先進的量產光刻機還停留在28納米水平。
雖然不斷追趕，但與世界最先進的2納米差距巨大。
而傅國生團隊，完全依靠自身的學術積累和有限的科研經費，竟然能獨自摸索到1納米的前沿，距離突破隻差臨門一腳！