許振峰的話音剛落，會議室裡便陷入了短暫的沉默。許振峰麵前那七位都低頭看著手中的筆記本，不時用筆在上麵記錄著什麼，臉上的表情愈發凝重。
過了一會兒，天庭排名第四的那位抬起頭，語氣沉重地說：“許總，你說的這些情況，我們其實已經有所察覺。最近這幾年，美國對我國科技企業的打壓越來越頻繁，從製裁中興、華為，到限製向我國出口高端芯片和製造設備，他們的意圖很明顯，就是想通過芯片‘卡脖子’，遏製我國高科技產業的發展。但我們一直想知道，從技術層麵來看，美國到底能從哪些環節對我們‘卡脖子’？這些‘卡脖子’的環節，我們目前的短板到底有多長？”
這個問題，正是許振峰多年來讓振峰科創公司攻克的重點。他放下筆記本，條理清晰地解釋道：“各位大佬，從產業邏輯來看，芯片產業的‘卡脖子’問題主要集中在三個核心環節：技術、設備和材料。這三個環節環環相扣，任何一個環節出現短板，都會影響整個芯片產業的發展。”
“首先是技術層麵，”許振峰伸出一根手指，緩緩說道，“芯片產業的技術‘卡脖子’，主要體現在芯片設計和芯片製造兩個環節。在芯片設計環節，我們嚴重依賴進口的eda軟件——eda軟件又稱‘電子設計自動化軟件’，是芯片設計的‘靈魂工具’，沒有它，設計師根本無法完成芯片的電路設計、性能仿真和版圖繪製。目前全球eda軟件市場幾乎完全被三家國外的科技公司壟斷，分彆是美國的synopsys、cadence和德國的entorgraphics，這三家公司占據了全球eda市場95以上的份額，我國eda軟件的國產化率不足5。更關鍵的是，高端eda軟件幾乎被這三家公司完全壟斷，比如用於7納米及以下先進製程芯片設計的eda軟件，國內目前還沒有任何一家企業能夠研發出來。”
許振峰說到這裡，有些心虛地看著眼前的七個老者。實際上，早在今年年初的時候，振峰科創公司就已經實現突破，如今已經通過實驗檢驗，效果那是相當“奈斯”。
他頓了頓，繼續說道：“雖然這些年我國在芯片設計領域有了一定的進展，比如華為海思設計出了麒麟係列高端芯片，中芯國際能夠設計出中低端芯片，但在複雜算法和架構設計上，我們與國際先進水平仍有很大差距。舉個例子，芯片的架構就像房子的‘骨架’，目前全球主流的芯片架構主要有ar架構和x86架構，ar架構被英國的ar公司壟斷，x86架構被美國的英特爾公司壟斷，我國自主研發的芯片架構，比如龍芯的oongarch架構，雖然已經實現了部分突破，但在生態建設和兼容性上，還無法與ar、x86架構相比。而芯片的算法，就像房子的‘裝修’，直接影響芯片的性能和功耗，目前我國在人工智能芯片、高端服務器芯片的算法設計上，還需要依賴國外的技術專利。”
而這樣的問題，振峰科創公司也已經突破，隻不過時機還沒成熟，許振峰沒有對外公布而已。
“在芯片製造環節，技術‘卡脖子’的問題更為突出，”許振峰的語氣變得更加沉重，“芯片製造是一個技術密集型的過程，需要經過數百道工序，其中最關鍵的技術包括薄膜沉積、光刻、刻蝕等。薄膜沉積技術是在矽片上形成超薄的薄膜，這些薄膜的厚度通常隻有幾納米，相當於頭發絲直徑的萬分之一，目前國際先進水平已經能夠實現原子級彆的薄膜沉積，而我國的薄膜沉積技術還停留在納米級，在薄膜的均勻性和穩定性上，與國外存在明顯差距。”
“光刻技術更是芯片製造的‘核心中的核心’，”許振峰加重了語氣，“光刻技術就像‘雕刻刀’，通過紫外線將芯片設計圖刻在矽片上，光刻技術的精度直接決定了芯片的製程水平。目前國際先進的光刻技術已經達到3納米，甚至2納米，而我國最先進的光刻技術還停留在14納米，與國際先進水平相差至少兩代。更關鍵的是，光刻技術的專利大多被國外公司掌握，我國在光刻技術的研發上，還麵臨著大量的專利壁壘。”
“刻蝕技術同樣不容忽視，”許振峰補充道，“刻蝕技術是將光刻後的矽片進行精細加工，去除多餘的部分，形成芯片的電路結構。國際先進的刻蝕技術已經能夠實現原子級彆的精度，而我國的刻蝕技術在精度和效率上，還無法滿足高端芯片的製造需求。這些技術上的短板，導致我國在芯片製造環節，隻能生產中低端芯片，無法生產7納米及以下的高端芯片，而高端芯片恰恰是智能手機、人工智能、高端服務器等領域的核心部件。”
聽完許振峰的講解，天庭排名第五那位眉頭緊鎖，問道：“許總，技術上的短板我們已經清楚了，那在設備層麵，我們的情況又如何呢？畢竟技術的實現，離不開先進的設備支撐。”
“您說得很對，設備是芯片產業的‘基石’，沒有先進的設備，再好的技術也無法落地，”許振峰點頭回應，“在設備層麵，我國芯片產業的‘卡脖子’問題主要集中在光刻機、薄膜沉積設備和刻蝕設備上。其中，光刻機是芯片製造最關鍵的設備，被稱為‘芯片產業的皇冠明珠’，目前全球隻有荷蘭的as公司能夠生產7納米及以下先進製程的euv光刻機，而as公司的euv光刻機，不僅價格高達1.5億美元一台，而且還受到美國的技術限製，無法向我國出口。我國雖然已經能夠生產用於28納米及以上製程的duv光刻機，但在技術性能上，與as的duv光刻機還有很大差距，更不用說euv光刻機了。”
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